靶材制备工艺八步曲

众所周知，靶材材料的技术发展趋势与靶材的制备发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。下面就跟着小编起来了解下靶材的制备方法吧！

       众所周知，靶材材料的技术发展趋势与靶材的制备发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。下面就跟着小编起来了解下靶材的制备方法吧！

       1、先用化学方法制成铟锡氧化物化学复合粉末，或者将单体氧化铟粉末和单体氧化锡粉末按9： 1质量比混合，制成机械复合粉末。粉末呈球形或准球形，平均粒径为30 ~ 200nm，纯度为99%，无硬团聚。

       2、将复合粉末在1 350℃氧气氛中进行脱氧处理。

       3、把复合粉末装入包套内进行冷等静压。冷等静压介质为油，压力为200~280MPa，保压时间为10min。获得的粗坯密度为理论密度的45%~55%。

       4、粗坯装入相应尺寸的容器内。容器与粗坯间隔以金属钽膜或镍膜或铌膜或铂膜，以阻止它们在高温高压下发生反应。

       5、抽真空，封装有粗坯的容器。

       6、将上述容器放入热等静压炉中进行热等静压处理。热等静压温度为1 100~1 300℃，保温时间为0.5~6h，氩气氛压力为100~120MPa。

       7、热等静压后用稀硝酸酸洗去除碳钢容器，剥离金属箔隔层，获得靶材。

       8、用线切割方法切割靶材，获得所需尺寸的产品。

       冷等静压包套(用橡胶制成)和热等静压容器(由碳钢制成，为方拄形或圆柱形)是由中南工业大学根据靶材点而门设计。

       四丰电子制造用高纯溅射靶材——高纯钼/铜/钛等系列产品的研发、生产、销售的高新技术企业。欢迎有需求的单位及个人来电联系。